회사소개
Corporation Introduction
회사연혁
- 2019. 11 ISO14001 인증 획득.
(주)삼성전자 반도체 업체 등록
- 2019. 09 신사옥 이전(오산시 지곶동 24-8)
- 2019. 06 ~ 12 SK HYNIX System IC社 Furnace Refurb
- 2019. 05 ~ 08 싱가폴 S社 TEL 12inch Refurb
- 2019. 01 ~ 04 대만 G社 TEL Furnace Refurb
- 2018. 09 ~ 12 대만 G社 TEL Furnace Refurb
- 2018. 01 ~ 12 중국 S社 KE Furnace Refurb
- 2018. 01 중국 S社 KE Furnace Refurb
- 2017. 08 중국 S社 업체 등록
- 2017. 08 ~ 12 중국 S社 KE Furnace Refurb
발전기
- 2016. 12 삼성 P.PJT TEL GENUINE Set-up
- 2016. 09 일본 S社 TEL Formula 해체
- 2016. 01 ~ 12 일본 T社 TEL Set-up 지원
- 2015. 06 증착 시스템에 구비되는 질소 가열장치 특허 등록
- 2015. 05 ~ 10 Shanghai TEL 설비 개조 지원
Taiwan & Japan TEL/ KE Set-up 및 해체 진행
- 2015. 02 ~ 07 중국 S社 TEL α-8SE 3대 Refurb
안정기
- 2013. 09 SK HYNIX Wuxi 유지/보수 계약 업체 등록
- 2012. 07 Foup Moisture Eject System 특허 등록
- 2012. 04 신규 장비 Pre Start up
- 2011. 07 TEL Korea 협력 업체 등록
- 2011. 06 연구소 설립
- 2011. 01 본사 및 공장 이전(남산공단)
- 2010. 06 300mm Relocation Start
도약기
- 2008. 10 공장 등록
- 2008. 09 본사이전(수원 디지털 엠파이어)
- 2008. 06 기업혁신형 중소기업(INNO-BIZ) 인증 획득
벤처기업 등록
- 2008. 05 Magnachip 협력 업체 등록
- 2008. 03 Wafer Align controller 특허 등록
Vac.Line sealing 특허 등록
Jusung Engineering 협력 업체 등록
ISO9001 인증 획득
- 2007. 07 일본(OKI) IW-6C Refurbish
- 2007. 05 HYNIX 업체 등록 (HYNIX-ST 포함)
- 2007. 03 삼성반도체 Re-Location
- 2006. 10 삼성 반도체 Re-Location
- 2006. 04 ~ 06 HYNIX(이천)→HYNIX(ST) TEL808 Re-Location
- 2005. 08 Dongbu Hitek 협력 업체 등록
- 2005. 07 중국 S社 Refurbish
- 2005. 06 KAIST Nano Fab 업체 등록
- 2005. 05 일본 S社 KE853 / TEL8S Re-Location
- 2005. 02 ~ 03 일본 S社 지진피해 장비(IW-6) Refurbish
성장기
- 2004. 11 Hynix(청주) Relocation
- 2004. 09 중국 S社 Refurbish
- 2004. 08 S-TOP 설립
창립기